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旋轉鋅鋁靶材,澆注鋅鋁合金靶,噴涂鋅鋁靶

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細

旋轉鋅鋁靶 Rotatable ZnAl target,應用:主要用于制作ZnO.Al2O3 膜,廣泛用于TCO玻璃,熱反射玻璃,low-e玻璃膜。氧化鋅是一種透明導電膜材料。以ZnO粉末和Al_2O_3粉末為主要原料,以常壓、空氣氣氛燒結為手段制備透明導電膜用ZnO陶瓷靶材。研究結果表明:粉末成型壓力為3MP時(shí),靶材電學(xué)性能佳;當Al:Zn原子比為4.100時(shí),ZnO的電阻率低,達4.1×10~(-3)Ω·㎝,當Al摻雜量超過(guò)某一數值后,Al不再以替位離子形式存在,而是與周?chē)腪n、O原子共同作用,生成鋅鋁尖晶石相,從而導致材料的電阻率升高。在1350℃時(shí),表面形貌上靶材表面晶粒間結合的致密。從斷面形貌看,氣孔較少,主要存在晶粒交界處,氣孔圓化,基本上達到了陶瓷靶材的燒結終點(diǎn)。當選取Al粉作為摻雜時(shí),溫度系列可以看出,在1050℃晶粒尺寸大,同時(shí)得到的電阻率相對較低。   目前大部分國家高等靶材市場(chǎng)主要分布于韓國、中國、日本,中國有超過(guò)20家靶材生產(chǎn)企業(yè),依靠國內的巨大市場(chǎng)潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策,以及產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢,國內的較好靶材制造商已經(jīng)在國內市場(chǎng)占有一定的市場(chǎng)份額,并逐步在個(gè)別細分領(lǐng)域搶占了部分國際大廠(chǎng)的市場(chǎng)空間。UVTM擁有多年開(kāi)發(fā)和工作經(jīng)驗的納米材料,并擁有冷噴涂技術(shù)生產(chǎn)金屬合金靶材,其制備的靶材Sn和O含量均略低于國產(chǎn)靶材。

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